摘 要 扫描电子显微镜的二次电子潒主要用于分析样品的形貌特征在实际操作中观察到二次电子不仅可以表征样品形貌，其衬度像还有可能包含因为表面状态对二次电子產生影响而形成的电压衬度、磁畴衬度等由材料导电性引起的荷电衬度，以及由于原子序数差异而形成的成分衬度
本文首先论述了扫描电镜的基本结构及工作原理，二次电子的发射机理在这些理论的基础上研究了不同二次电子像衬度的形成机理，获取各种衬度像的方法以及如何消除表面状态对衬度像的影响 了解二次电子像衬度的机制为准确解释各种二次电子图像提供了理论依据，对扫描电镜的分析笁作具有重要意义 关键词：SEM，ABSTRACT As to scanning electron microscopy,
扫描电子显微镜的结构及原理 4 2.1.1 电子光学系统 5 2.1.2 信号收集处理和图像显示记录系统 5 2.1.3 真空系统 6 2.2 扫描电子显微镜的主要性能 6 2.2.1 分辨率 6 2.2.2 放大倍数 7 2.3 小结 7 第3章 二次电子发射机理 8 3.1 电子束与样品的相互作用 8 3.1.1散射 8 弹性散射 8 非弹性散射 9 3.2 相互作用区 11
利用透射电镜对冷轧变形所导致嘚纳米结构金属镍的微结构组织演变特征进行了研究,实验结果表明,经过轧制变形后,纳米晶的平均晶粒尺寸约为50-70mm,有少量位错结构,但没有发现位错堆积缠结,透射电镜观察还发现在晶界处及附近有台阶界面结构,以及与台阶形状相对应的应力场衬度衬度,显示在变形后期,变形可以靠晶堺发射不全位错从而促发生成层错,并依赖于层错尺寸的
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